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納米粒度及電位分析儀

簡要描述:NS-90Z Plus納米粒度及電位分析儀是在成功引進和吸收馬爾文帕納科 (Malvern Panalytical)納米顆粒表征技術后,在上一代NS-90Z的基礎上進一步優化了光學電子測量技術和分析性能的一款新產品。NS-90Z Plus具有更可觀的粒度和電位分析功能,能滿足廣大納米材料、制劑開發和生產用戶的顆粒粒度和Zeta電位的測試需求。

基礎信息

產品型號

NS-90Z Plus

廠商性質

代理商

更新時間

2025-08-06

瀏覽次數

601
詳細介紹
品牌OMEC/歐美克應用領域綜合

產品介紹:

NS-90Z Plus納米粒度及電位分析儀采用動態光散射技術測量粒子和顆粒的粒度,采用電泳光散射技術測定顆粒Zeta電位和電位分布,同時兼有靜態光散射技術用于測定蛋白質與聚合物等的分子量。NS-90Z Plus融合馬爾文帕納科恒流模式下的M3-PALS快慢場混合相位檢測分析技術,提升了儀器的電位分析性能,升級了兼容多種樣品池 (選配) 功能,可分析樣品濃度和粒度范圍也得到了明顯提升。

與此同時,儀器廣泛采用全球化供應鏈的優質光電部件及Scrum軟件迭代升級開發模式,使其具有高品質并能隨用戶需求變化升級管理和報表功能。進口雪崩式光電二極管(APD)檢測器、He-Ne氣體激光器光源和高性能相關器等優質硬件,加上精確的內部溫控裝置、密閉光纖光路設計以及優良的軟件算法,共同保障了數據的高重現性、準確性和靈敏度。NS-90Z Plus支持SOP標準化操作,具有兼容CFDA GMP《計算機化系統和確認與驗證》要求的審計、權限管理及電子簽名功能以及具有測試數據質量智能反饋和優化建議,方便用戶使用。


工作原理:

NS-90Z Plus納米粒度及電位分析儀在一種緊湊型儀器中集成了三種測試技術:

動態光散射技術

NS-90Z Plus 納米粒度及電位分析儀使用經典的90°角動態光散射(Dynamic Light Scattering/DLS)技術來測量粒子和顆粒的粒度。該技術利用光電檢測器測量樣品中粒子由布朗運動所產生的散射光強漲落信號,通過數字相關器計算得到相關函數(Correlation Function)以分析顆粒的擴散速率,再以斯托克斯-愛因斯坦(Stokes-Einstein)方程計算出顆粒的粒徑與分布。本技術所測量的粒徑為流體動力學等效直徑,通過相同擴散速率的硬球進行等效直徑計算而得。動態光散射法也稱為光子相關光譜法(Photon Correlation Spectroscopy/PCS)。

納米粒度及電位分析儀

電泳光散射技術

NS-90Z Plus使用電泳光散射(Electrophoretic Light Scattering/ELS)技術測量顆粒滑移層的Zeta電位。顆粒在人為施加的電場作用下做電泳運動,其電泳運動速率和Zeta電位直接相關,以亨利方程進行表述。NS-90Z Plus使用恒流模式下的快慢場混合激光多普勒相位分析法(Mixed mode measurement, phase analysis light scattering/M3-PALS),成功解決了毛細管電滲對測試的影響,并且在一次測試過程中同時得到Zeta電位平均值和電位分布曲線。電泳光散射技術可測量最大粒徑至100μm左右的樣品的Zeta電位 (取決于樣品屬性及制備) 。

納米粒度及電位分析儀

靜態光散射技術

NS-90Z Plus納米粒度及電位分析儀使用靜態光散射(Static Light Scattering/SLS) 技術以非侵入式表征溶液及膠體中的蛋白質單體、聚集體或聚合物等粒子的摩爾質量,即分子量。在德拜法分子量計算的描述中,粒子產生的散射光強度正比于重均分子量的平方以及粒子濃度。通過使用德拜法測量一組濃度梯度的樣品靜態散射光強度,可以計算蛋白質與聚合物的分子量。與動態光散射技術不同的是,靜態光散射技術是測量一段時間內散射光的平均強度。分子量單位為 Da(Dalton) 或g/mol。

納米粒度及電位分析儀

用途:

NS-90Z Plus納米粒度及電位分析儀是一款高性價比的納米顆粒粒徑和納微米顆粒Zeta電位的表征儀器,適用于對粒度和電位分布表征有較高靈敏度需求的材料分析,以及需要與使用90°散射角粒徑測試系統結果相同的應用。該儀器適用于對分子、蛋白質、聚合物、膠體、乳液、懸浮液及各種復雜配方制劑體系等樣品的測試分析。  

典型應用:

膠體和乳液表征

藥物分散體系、乳液和疫苗等制劑配方和工藝開發

脂質體和囊泡的開發

•  蛋白質及其聚集體的評價

電極漿料及助劑的粒徑、分散和穩定性表征

涂覆材料分散性能預測

納米金等高電導率溶膠的改性

墨水、碳粉、染料和顏料性能改進

優化水處理中絮凝劑的使用

•  膠體、乳液、漿料穩定性評價

•  確定多種復雜制劑的混合、均質等加工工藝參數

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